蒸着装置とは

蒸着装置は、物質を蒸発させて、その蒸気を基板に堆積させることによって薄膜を形成する装置です。主に、金属、酸化物、半導体などの材料を蒸着するために使用され、これにより高品質の薄膜を作成することができます。蒸着プロセスは、物理的な蒸着（PVD）や化学的な蒸着（CVD）といった技術があり、それぞれ特定の用途に応じた方法が選ばれます。特に、物理的蒸着（PVD）は高精度の薄膜形成が可能で、主に電子機器や光学機器の製造に使用されます。

蒸着装置の動作原理は、ターゲット材料を高温で加熱し、その蒸気が基板に直接堆積するというものです。このプロセスにより、非常に薄い膜を高精度で均一に形成でき、電子機器や太陽電池、光学レンズなどの製造において重要な役割を果たします。蒸着装置は、真空環境で行われることが多く、これにより薄膜が純度高く、均一に形成されることが保証されます。

蒸着装置の使用用途

✅半導体製造
蒸着装置は半導体の製造に広く使用され、微細な回路やトランジスタを作成するために使用されます。特に、チップ表面に金属層や絶縁層を均一に堆積するために活用されます。
✅太陽電池の製造
蒸着技術は、太陽電池の薄膜においても使用されます。特に、薄膜型太陽電池では、金属や酸化物の薄膜を基板に精密に蒸着することで、発電効率を高めることができます。
✅光学機器
レンズやフィルターの製造にも蒸着装置が使用されます。光学特性を高めるために、反射防止膜や反射膜などを基板に均等に蒸着することができます。
✅電子機器の製造
スマートフォンやディスプレイ、LEDなどの電子機器の製造にも蒸着装置が使用されます。特に、薄膜トランジスタや導電膜の形成に利用され、高精度な加工が求められます。

※一部商社などの取扱い企業も含みます。