半導体露光装置とは

半導体露光装置とは、半導体チップを製造する際に使用される装置で、シリコンウェハー上に微細な回路パターンを形成するための重要な工程「リソグラフィ（フォトリソグラフィ）」に用いられます。この装置は、フォトマスクと呼ばれる原版に描かれた回路パターンを、紫外線や極端紫外線（EUV）などの光を用いてシリコンウェハーに転写します。露光技術には「ステッパー方式」や「スキャナー方式」があり、特にEUV露光技術は、ナノメートル単位の微細加工が可能な最先端技術として活用されています。半導体の微細化が進むにつれ、露光装置の精度向上が求められ、オランダのASML、日本のニコン、キヤノンなどが主要なメーカーとして開発を続けています。露光装置は半導体製造の中核を担うため、最先端技術の進化とともに、半導体産業の発展に大きく貢献しています。

半導体露光装置の使用用途

✅プロセッサ（CPU・GPU）の製造
コンピューターやスマートフォンに搭載されるCPUやGPUの製造に用いられる。特にEUV露光装置を使用することで、最先端の3nmプロセスなどの微細回路を形成できる。
✅メモリチップ（DRAM・NANDフラッシュ）の製造
データ保存用のメモリチップ（DRAM、SSD用NANDフラッシュ）の生産に使用。微細な回路パターンを正確に形成し、高密度・高性能なメモリデバイスを作る。
✅イメージセンサーの製造
スマートフォンのカメラや監視カメラ、自動運転のLiDARセンサーなどに使われるCMOSイメージセンサーの製造にも活用。高精細な画質を実現するための微細な構造を形成する。
✅電源管理IC（PMIC）や通信チップの製造
省電力設計が求められるスマートフォンやIoTデバイスの電源管理ICや、5G・Wi-Fiチップの製造にも使用。微細化技術により、消費電力の低減と高性能化を実現する。

※一部商社などの取扱い企業も含みます。