露光装置とは

露光装置（Photolithography machine）は、半導体製造プロセスにおいて極めて重要な役割を果たす機器です。主にシリコンウェーハ上に微細な回路パターンを転写するために使用されます。半導体チップにおけるトランジスタや回路の形成には、非常に精密で高精度なパターンが必要です。このプロセスを「露光」と呼び、微細な回路を作り出すために光を利用します。

露光装置の基本的な仕組みは、まずシリコンウェーハにフォトレジストという感光性の材料を塗布し、その上にマスク（回路パターンが刻まれた薄い板）を配置します。次に、露光装置は紫外線（UV）光をマスクを通してウェーハに照射し、マスク上の回路パターンをフォトレジストに転写します。露光後、ウェーハを現像し、フォトレジストの露光された部分を削り取ることで、回路パターンがウェーハ上に形成されます。

近年、半導体の微細化が進み、回路線幅がどんどん小さくなっています。これに伴い、露光装置の技術も進化し、極紫外線（EUV）露光装置など、より高精度な機器が開発されています。これにより、ナノメートル単位の微細な回路パターンの転写が可能となり、最先端の半導体チップの製造が実現しています。

露光装置の使用用途

露光装置は、特に半導体の製造プロセスで重要な役割を果たします。具体的な使用例として、以下のようなものがあります。
１．スマートフォンチップの製造： 半導体メーカーでは、スマートフォンのチップに使われるトランジスタを製造するために、EUV露光装置を使用して回路パターンをシリコンウェーハに転写します。これにより、チップの性能や省エネ機能を向上させています。
２．5G通信向けの半導体製造： 5G通信インフラに必要な高性能なプロセッサやアンテナチップを製造する際にも、露光装置は不可欠です。特に、EUV技術は、5Gチップの小型化と高速化を可能にします。
３．自動車の自動運転技術向けチップの製造： 自動運転車の制御システムやセンサーに使用される高性能チップを製造するために、露光装置が活用されます。これにより、精度と信頼性が求められる自動運転技術を支えています。

※一部商社などの取扱い企業も含みます。