真空炉とは

真空炉は、内部が真空状態に保たれる炉で、主に高温で材料を加熱・処理するために使用されます。真空状態を作り出すことで、酸化や汚染を防ぎ、より高精度な加熱を行うことができます。これにより、金属やセラミック、半導体などの素材に対して、特に高い純度が求められる熱処理が可能になります。真空炉は、温度制御が非常に厳密で、熱処理の過程での品質管理が重要なため、産業界や研究開発の分野で多く使用されています。例えば、金属の焼結、焼き入れ、脱脂、鋳造などに利用されます。また、真空中で行うことにより、反応をコントロールしたり、特定のガスを使用したりすることもできます。これにより、製品の品質が向上し、材料の性能が最適化されます。

真空炉の使用用途

✅金属の焼結処理
真空炉は金属の焼結に使用され、粉末状の金属を高温で加熱し、固体状態に変化させるプロセスです。これにより、金属の密度や強度を高めることができます。
✅セラミック材料の処理
セラミックの製造や処理にも真空炉が使われます。真空環境での加熱は、セラミックの品質向上と製造過程での不純物の除去に役立ちます。
✅半導体の熱処理
半導体の製造過程では、真空炉が重要な役割を果たします。真空中での熱処理により、精密な加工が可能となり、半導体の品質が向上します。
✅鋳造および焼き入れ
鋳造や焼き入れのプロセスにおいて、真空炉を使用することで、金属の表面の酸化を防ぎ、高精度な仕上げを実現します。

※一部商社などの取扱い企業も含みます。