เครื่องฝังไอออนคืออะไร?

เครื่องฉีดไอออน (Ion Implantation Machine) เป็นอุปกรณ์ที่สำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งทำงานโดยการฉีดไอออนชนิดเฉพาะลงในวัสดุ (โดยทั่วไปคือซิลิคอน) เพื่อเปลี่ยนแปลงคุณสมบัติทางไฟฟ้าของวัสดุนั้น กระบวนการนี้เรียกว่า การเติมดอปปิ้ง (Doping) ซึ่งใช้ในการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์โดยการเติมสารปนเปื้อนในพื้นที่เฉพาะของวัสดุ เพื่อให้ได้คุณสมบัติที่ต้องการในอุปกรณ์ เช่น ทรานซิสเตอร์

เครื่องฉีดไอออนจะเร่งไอออนให้มีพลังงานสูงและยิงไปที่เวเฟอร์เป้าหมาย โดยไอออนจะฝังตัวอยู่ในเวเฟอร์ที่ความลึกและความเข้มข้นที่ต้องการ การควบคุมประเภทของไอออน พลังงาน และมุมการฉีดอย่างแม่นยำทำให้สามารถได้คุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ต้องการ

เทคโนโลยีนี้ถูกนำมาใช้ในกระบวนการผลิตวงจรรวม (IC) และอุปกรณ์ MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) เครื่องฉีดไอออนเป็นเครื่องมือที่ขาดไม่ได้ในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ที่มีความเร็วและประสิทธิภาพสูง

การใช้งานเครื่องฝังไอออน

ตัวอย่างการใช้งาน เครื่องฉีดไอออน ได้แก่:
１．การเติมดอปปิ้งในทรานซิสเตอร์เซมิคอนดักเตอร์: ในการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ เครื่องฉีดไอออนถูกใช้เพื่อเติมสารดอปปิ้งลงในเวเฟอร์ซิลิคอนเพื่อปรับปรุงคุณสมบัติของทรานซิสเตอร์ ตัวอย่างเช่น การฉีดไอออนของโบรอนและฟอสฟอรัสเพื่อสร้างเซมิคอนดักเตอร์ชนิด n และ p ซึ่งช่วยให้ได้คุณสมบัติทางไฟฟ้าที่จำเป็นสำหรับการทำงานของวงจรรวม
２．การผลิตวงจรรวม (IC): ในการผลิตวงจรรวม (IC) การเติมดอปปิ้งหลายชนิดลงในแต่ละชั้นของชิปจะทำให้แต่ละชั้นมีคุณสมบัติการนำไฟฟ้าที่เฉพาะเจาะจง ซึ่งช่วยให้สามารถสร้างวงจรที่มีความหนาแน่นและซับซ้อนได้
３．อุปกรณ์ MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems): ในการผลิตอุปกรณ์ MEMS เครื่องฉีดไอออนถูกใช้เพื่อฝังวัสดุที่มีฟังก์ชันเฉพาะลงในเวเฟอร์ เช่น ในการผลิตเซ็นเซอร์ที่ใช้ในเครื่องวัดการเคลื่อนไหวและจาโยสโคป การใช้เทคโนโลยีการเติมไอออนช่วยให้ได้อุปกรณ์ที่สามารถทำงานได้อย่างแม่นยำ

รวมข้อมูลเกี่ยวกับบริษัทการค้า