レジスト塗布装置とは

レジスト塗布装置は、半導体製造において重要な役割を果たす装置です。特に、フォトリソグラフィ工程で使用されます。この工程では、シリコンウエハーの表面に光感応性のあるレジスト（フォトレジスト）を均等に塗布し、その後、紫外線（UV）光を照射してパターンを転写します。レジスト塗布装置は、そのレジストをウエハー上に均一に塗布するための精密な装置です。

レジスト塗布装置は、通常、スピンコート法を採用しており、ウエハーを高速で回転させ、レジストを均等に広げます。この方法は、均一な膜厚を得るために非常に効果的です。また、レジスト塗布装置は、レジストの種類やウエハーのサイズ、必要な膜厚に応じて、塗布速度や回転数を調整することができます。

レジスト塗布装置は、半導体の微細な回路を作成するために、非常に精密な温度・時間管理と機械的な精度が求められます。

レジスト塗布装置の使用用途

レジスト塗布装置の具体的な使用例は以下の通りです。
１．半導体チップの製造： 半導体製造の最初の段階で、シリコンウェハーに光感応性レジストが塗布され、フォトリソグラフィ工程が始まります。これにより、ウェハーに微細な回路パターンを転写することができます。レジスト塗布装置は、均一で薄いレジスト層をウェハー上に塗布するために使用されます。
２．集積回路（IC）の製造： 高集積回路（IC）の製造においても、レジスト塗布装置は欠かせません。ICの微細なトランジスタや回路パターンを作成するため、レジストが正確に塗布される必要があります。塗布されたレジストは、次の工程で紫外線を照射してパターンを形成します。
３．MEMSデバイスの製造： MEMS（Micro-Electro-Mechanical Systems）デバイスの製造にもレジスト塗布装置が使用されます。MEMSデバイスは非常に微細な機械構造を持ち、精密なレジスト塗布が必要です。レジスト塗布装置により、これらの微細な構造のために正確なパターンが形成されます。

※一部商社などの取扱い企業も含みます。