อุปกรณ์ ALD / Atomic Layer Depositionคืออะไร?

เครื่อง ALD (Atomic Layer Deposition) ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางอย่างละเอียดโดยใช้กระบวนการเคลือบชั้นอะตอม ซึ่งเทคโนโลยีนี้ถูกใช้อย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น เซมิคอนดักเตอร์ แผงโซลาร์เซลล์ อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ แบตเตอรี่ และแม้กระทั่งอุปกรณ์การแพทย์ ในกระบวนการ ALD จะมีการนำก๊าซของสารตั้งต้น 2 ชนิดมาสลับกันเพื่อให้ตกตะกอนบนพื้นผิวของวัสดุ โดยการเกิดปฏิกิริยาเคมี ฟิล์มบางจะถูกสร้างขึ้นทีละชั้นอะตอม ซึ่งสามารถควบคุมความหนาของฟิล์มได้ในระดับนาโน

จุดเด่นของ ALD คือ ความสม่ำเสมอและความแม่นยำในการสร้างฟิล์ม ฟิล์มที่ได้จะมีความสม่ำเสมอไม่ว่าจะเป็นพื้นผิวของวัสดุหรือรูปร่างที่ซับซ้อน นอกจากนี้ยังสามารถควบคุมความหนาของฟิล์มได้อย่างละเอียด ทำให้ ALD เป็นเทคโนโลยีสำคัญในด้านนาโนเทคโนโลยีและการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง ALD ถูกใช้งานในสถานการณ์ที่ต้องการฟิล์มบางที่มีคุณภาพสูง

การใช้งานอุปกรณ์ ALD / Atomic Layer Deposition

เครื่อง ALD ถูกนำไปใช้ในหลากหลายอุตสาหกรรม ตัวอย่างการใช้งานที่เฉพาะเจาะจง ได้แก่:
１．การผลิตฟิล์มออกไซด์เกตในเซมิคอนดักเตอร์: ALD ใช้ในการเคลือบฟิล์มออกไซด์เกตในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ ฟิล์มบางนี้สำคัญต่อการทำงานของทรานซิสเตอร์ และสามารถควบคุมได้อย่างแม่นยำในระดับนาโน
２．การเคลือบฟิล์มบางในแผงโซลาร์เซลล์: ALD ถูกใช้ในแผงโซลาร์เซลล์เพื่อสร้างฟิล์มที่มีประสิทธิภาพสูงในการดูดซับแสง ฟิล์มเหล่านี้ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในการดูดซับแสงและทำให้ประสิทธิภาพของแผงโซลาร์เซลล์ดีขึ้น
３．การเคลือบฟิล์มบางบนขั้วไฟฟ้าของแบตเตอรี่: ALD ยังถูกใช้ในการเคลือบฟิล์มบางบนขั้วไฟฟ้าของแบตเตอรี่ลิเธียมไอออน ฟิล์มนี้ช่วยยืดอายุการใช้งานของขั้วไฟฟ้าและทำให้การเก็บพลังงานมีประสิทธิภาพมากขึ้น

รวมข้อมูลเกี่ยวกับบริษัทการค้า