ALD装置 / Atomic Layer Depositionとは

ALD装置（Atomic Layer Deposition装置）は、原子層堆積法を用いて非常に薄い膜を形成するための装置です。この技術は、半導体、太陽光パネル、電子機器、バッテリー、さらには医療機器など、さまざまな分野で使用されています。ALDプロセスでは、2種類の化学物質（前駆体ガス）を交互に基板に供給し、化学反応により1層ずつ非常に薄い膜を形成します。このプロセスにより、膜の厚さをナノスケールで制御することができます。

ALDの最大の特徴は、膜の均一性と精度です。基板の形状に関係なく、均一な膜を形成でき、複雑な形状にも対応可能です。また、膜の厚さを非常に細かく調整できるため、ナノテクノロジーや高度な半導体製造において重要な役割を果たしています。ALDは、特に高品質な薄膜が求められる場面で活用されています。

ALD装置 / Atomic Layer Depositionの使用用途

ALD装置は、さまざまな産業で活用されています。具体的な使用例は以下の通りです。
１．半導体のゲート酸化膜製造： ALDは、半導体チップの製造でゲート酸化膜を形成するために使用されます。この膜は、トランジスタの動作に不可欠で、ナノスケールで精密にコントロールされます。
２．太陽光パネルの薄膜コーティング： 太陽光パネルでは、ALDを使用して高効率な光吸収膜を形成します。この膜は、光の吸収率を向上させ、パネルの性能を高めます。
３．バッテリー電極のコーティング： ALDは、リチウムイオンバッテリーの電極材料に薄膜を形成するためにも使用されます。この薄膜は、電極のサイクル寿命を延ばし、効率的なエネルギー貯蔵を実現します。

※一部商社などの取扱い企業も含みます。